SEMILAB薄膜厚度和电阻率测量装置WMT

SEMILAB薄膜厚度和电阻率测量装置WMT

SEMILAB薄膜厚度和电阻率测量装置WMT

光致发光PLl-101/A, PLI-103/A,寿命测量装置WML,WLL,薄膜厚度和电阻率测量装置WMT,WLT,晶体形状测量装置TTR-300,发射极片电阻测量装置CMS,CLS,激光椭圆仪SE-100IL,LE-100IL

产品介绍

用于晶体和电池检测的光致发光设备快速可靠的在线光致发光设备，用于在从切割晶体到成品电池的所有加工阶段对晶体和电池质量进行无损测量。可以控制整个制造阶段的材料质量。高质量的晶体可生产出高效的电池，从而降低制造成本。

对厚度、TTV 和电阻率进行高速、非接触式评估。厚度和电阻率是光伏应用中硅片的关键质量控制参数。WLT 型号（WLT-1、WLT-3、WLT-5）在线薄膜厚度和电阻率测量系统提供 1-5 点厚度和 1 点电阻率，用于全自动晶圆生产线的在线质量控制满足要求的高吞吐量。WMT 型号（WMT-1、WMT-3）薄膜厚度和电阻率测量系统允许在不停止传送带的情况下进行晶体测量（“动态"测量）。

两侧的厚度、电阻率和锯痕都可以用这个太阳能硅片轮廓测量系统测量。

发射极扩散后，发射极薄层电阻是 PV 应用中硅晶片的关键质量控制参数。

CLS 型号（CLS-1A、CLS-3A、CLS-5A）的发射极薄层电阻测量系统以高吞吐量测量 1 到 5 个点的薄层电阻，以满足全自动电池生产线中在线质量控制的要求。

CMS 型号（CMS-1A、CMS-3A）的发射极薄层电阻测量系统允许在不停止传送带的情况下测量晶圆（“On the Fly"测量）。因此，它实现了高通量，以满足电池全自动化生产线中在线质量控制的要求。

LE-100IL：用于 PV 晶体涂层测量的在线激光椭圆仪