ORC半导体用露光装置PPS-8200p1

ORC半导体用露光装置PPS-8200p1

ORC半导体用露光装置PPS-8200p1

半导体用露光装置PPS-8200p1，PPS-8300p1，PPS-8500，半导体用UV照射装置VUM-3500

产品介绍

露光装置 PPS-8200p1/8300p1

适用于多种应用程序

WL-CSP、IGBT、CIS等的光刻6/8/12英寸对应。  

特征

宽带曝光 (与配方关联的自动切换 ghi线 gh线 i线)

可变NA功能搭载（0.16和0.1的可变）

最大8字段的招聘设计格式

注册出去气体和周边环境的化学物质对光学系统的保护

PPS-8500

大型面板专用的垫片

特征

热处理对应高反曲基板・再配线表面的扭曲基板

通过最佳的吸引方法可以将反曲工作吸着搬运。

多点对焦实现自动对焦功能

面板伸缩的对齐功能

分割全球对齐、逐点对齐（逐个死亡）、通过reticle实现缩放功能

VUM-3500 

闪存和其他非易失性内存、图像传感器等的电荷去除、数据清除。

特征

采用254nm波长以实现最佳电荷去除。

单一波长使得低温处理成为可能。

低入射角UV光有效照射到目标区域。

实现LSI的良率提升和可靠性提升。